下一個造富機會
這些年，在產業發展浪潮中，有幸目睹了一些生活和工作中接觸的高知人士，
通過5-8年的努力，完成公司上市或者成為上市公司高管。實現越級發展。
感嘆機會到處都是，都是留給那些愛折騰的精英人士的。
下一個十年的批量造富機會：半導體全產業鏈國產化替代，就材料和設備兩項，就能造富無數。
半導體各環節的國產化率：
1）材料：目前我國半導體材料國產化仍存在挑戰，如12 英寸硅片國產化率僅為10%，光刻膠國產化率為10%，電子氣體國產化率為15%，是電子化學品國產化率為10%（G3 及以上）。
2）設備：根據沙利文&頭豹數據，中國大陸半導體設備國產化率穩步提升，刻蝕設備、薄膜沉積設備、清洗設備、CMP 拋光設備的國產化率位于10%-30%之間，熱處理設備國產化率位于30%-40%之間，去膠機國產化率達到80%以上；光刻、量/檢測設備、離子注入設備、涂膠顯影設備國產化率仍較低，處于5%以下
通過5-8年的努力，完成公司上市或者成為上市公司高管。實現越級發展。
感嘆機會到處都是，都是留給那些愛折騰的精英人士的。
下一個十年的批量造富機會：半導體全產業鏈國產化替代，就材料和設備兩項，就能造富無數。
半導體各環節的國產化率：
1）材料：目前我國半導體材料國產化仍存在挑戰，如12 英寸硅片國產化率僅為10%，光刻膠國產化率為10%，電子氣體國產化率為15%，是電子化學品國產化率為10%（G3 及以上）。
2）設備：根據沙利文&頭豹數據，中國大陸半導體設備國產化率穩步提升，刻蝕設備、薄膜沉積設備、清洗設備、CMP 拋光設備的國產化率位于10%-30%之間，熱處理設備國產化率位于30%-40%之間，去膠機國產化率達到80%以上；光刻、量/檢測設備、離子注入設備、涂膠顯影設備國產化率仍較低，處于5%以下
